固体機能デバイス施設
| 超純水製造装置 | 化学処理用クリーンベンチ |
| N2ブローガン | 回転式ウェハ乾燥機 |
| 4インチ対応酸化・アニール炉 | 4インチ対応リン拡散炉 |
| イオン注入装置 | Alスパッタ装置 |
| 金属膜(3元)スパッタ装置 | Poly-Si用減圧CVD装置 |
| TEOS-SiO2 & Si3N4用減圧CVD装置 | BPSG用プラズマCVD装置 |
| Si系Reactive Ion Etching(RIE)装置 | Metal系RIE装置 |
| O2アッシング装置 | 異方性ウェットエッチングシステム(TMAH) |
| 電子線描画装置 | g線ステッパ |
| i線ステッパ | レジストコータ・ディベロッパ |
| スピンナー | スプレーコータ |
| プロジェクションアライナ | 両面アライナ |
| コンタクトアライナ(2インチ) | コンタクトアライナ(4インチ) |
| 金線ワイヤボンダー | ダイボンダー |
| ダイシング装置 | 陽極接合装置 |
| 真空対応陽極接合装置 | ウェハプローバシステム |
| 温度可変プローバシステム | Hgプローブシステム |
| 半導体パラメータアナライザ | LCRインピーダンスアナライザ |
| ウェハフラットネステスタ | エリプソメータ |
| 干渉式膜厚計 | 段差形状測定器 |
| レーザー顕微鏡 | 走査電子顕微鏡(FE-SEM) |
| 光学式顕微鏡 | 四探針抵抗測定器 |
| マスク設計システム(Cadence) | 回路シミュレータ(SPICE) |
| プロセスシミュレータ(SUPREM) | 有限要素解析システム(ANSYS) |
| デバイスシミュレータ(SPECTRA) | 3次元光学シミュレータ(TOCCATA) |