Electron Device Research Center
超純水製造装置 |
化学処理用クリーンベンチ |
N2ブローガン |
回転式ウェハ乾燥機 |
4インチ対応酸化・アニール炉 |
4インチ対応リン拡散炉 |
イオン注入装置 |
Alスパッタ装置 |
金属膜(3元)スパッタ装置 |
Poly-Si用減圧CVD装置 |
TEOS-SiO2 & Si3N4用減圧CVD装置 |
BPSG用プラズマCVD装置 |
Si系Reactive Ion Etching(RIE)装置 |
Metal系RIE装置 |
O2アッシング装置 |
異方性ウェットエッチングシステム(TMAH) |
電子線描画装置 |
g線ステッパ |
i線ステッパ |
レジストコータ・ディベロッパ |
スピンナー |
スプレーコータ |
プロジェクションアライナ |
両面アライナ |
コンタクトアライナ(2インチ) |
コンタクトアライナ(4インチ) |
金線ワイヤボンダー |
ダイボンダー |
ダイシング装置 |
陽極接合装置 |
真空対応陽極接合装置 |
ウェハプローバシステム |
温度可変プローバシステム |
Hgプローブシステム |
半導体パラメータアナライザ |
LCRインピーダンスアナライザ |
ウェハフラットネステスタ |
エリプソメータ |
干渉式膜厚計 |
段差形状測定器 |
レーザー顕微鏡 |
走査電子顕微鏡(FE-SEM) |
光学式顕微鏡 |
四探針抵抗測定器 |
マスク設計システム(Cadence) |
回路シミュレータ(SPICE) |
プロセスシミュレータ(SUPREM) |
有限要素解析システム(ANSYS) |
デバイスシミュレータ(SPECTRA) |
3次元光学シミュレータ(TOCCATA) |